光刻机，作为半导体工业中的核心设备，其重要性不言而喻，它如同一位精密无比的画师，将微小而复杂的电路图案，精确地描绘在硅片这片“画布”上，为芯片的诞生奠定基础。
从原理上看，光刻机基于光学投影技术，利用光线透过掩模（mask）上的精细电路图案，将其缩小并精准投影到涂有光敏材料（光刻胶）的硅片表面，这一过程涉及光源、光学投影系统、控制系统以及光刻胶涂覆和显影系统等多个关键环节的协同运作，当光源发出特定波长的光线，经过一系列光学元件的聚焦与校准后，形成平行光束照射在掩模上，掩模上的电路图案如同过滤器，对光线进行选择性透过，只有特定区域的光线能够穿透掩模，进而被物镜捕捉并投射至硅片的光刻胶层，光刻胶在光照作用下发生化学变化，显影时，曝光区域与未曝光区域呈现出不同的溶解特性，从而显现出电路图案。
光刻机的发展历程见证了半导体技术的飞速进步，早期的接触式光刻机，因掩模与硅片直接接触易造成污染和损伤，逐渐被接近式和投影式光刻机所取代，如今，主流的光刻机采用深紫外（DUV）和极紫外（EUV）光源，DUV光刻机使用波长为193nm的深紫外光，通过多次曝光技术可实现更小线宽的图案刻画，满足了7nm及以上制程芯片的生产需求，而EUV光刻机则以13.5nm的极紫外光为光源，凭借其更短的波长，能够实现更高精度的图案曝光，有力推动了5nm及以下先进制程的发展，EUV光刻机的研发与制造面临着诸多技术挑战，如高功率光源的稳定性、高精度反射镜系统的制造以及复杂机械系统的精度控制等，全球范围内仅有荷兰ASML公司能够实现其量产。
光刻机的应用领域不仅局限于集成电路制造，在平面显示器领域，它负责将液晶显示屏的驱动电路图案精确转移到玻璃基板上，确保显示器的清晰显示与稳定运行；LED芯片制造过程中，光刻机同样发挥着关键作用，助力实现高效发光区域的精确构建；在MEMS领域，从微型传感器到执行器等各类微型机械系统，都离不开光刻机对微观结构的精细雕琢。
光刻机作为现代半导体制造的基石，其技术水平的提升与创新，将持续推动着电子产品向更高性能、更小型化的方向演进，引领科技产业不断迈向新的高度。