在当今科技飞速发展的时代，芯片如同电子设备的核心“大脑”，而光刻机则是芯片制造过程中至关重要的“画师”，它利用光学原理，将复杂的电路图案精确地投射到硅片等基底上，为后续众多工艺步骤奠定基础，决定了芯片的性能和功能。
从早期简单的接触式光刻，到如今先进的极紫外光刻机（EUV），光刻技术经历了漫长而辉煌的发展历程，接触式光刻曾因设备简单、分辨率较高而广泛应用，但随着对芯片性能要求的不断提高，其缺陷也逐渐暴露，如掩膜版易损坏、图形缺陷多等，随后，接近式和投影式光刻技术应运而生，特别是投影式光刻中的扫描投影和步进重复等方式，大大提高了生产效率和精度，满足了大规模集成电路制造的需求。
现代的光刻机由光源、光学投影系统、控制系统、工作台等部分组成，光源发出的光线经过一系列光学元件的处理，形成均匀、高强度的光束照射到掩膜版上；掩膜版上的精细图案通过光学投影系统精准地缩小并投射到涂有光刻胶的硅片表面；控制系统则精确控制曝光时间、工作台移动等参数，确保图案的准确转移，这一过程需要高精度的机械运动、稳定的光学系统和复杂的控制算法协同工作，任何一个环节的微小偏差都可能导致芯片性能的下降甚至报废。
光刻机的应用领域十分广泛，不仅在传统的半导体芯片制造中发挥着核心作用，还在集成电路、平面显示器、LED、MEMS等领域不可或缺，在芯片制造中，从简单的逻辑电路到复杂的处理器、存储器等各类芯片，都离不开光刻机的支持，随着科技的不断进步，芯片制程不断向更小的纳米尺度演进，对光刻机的技术要求也越来越高，目前，荷兰ASML公司在高端光刻机市场占据主导地位，其研发的EUV光刻机能够实现更高的分辨率和生产效率，为芯片制造技术的发展提供了强大的动力。
光刻机作为半导体制造的关键设备，其技术水平和发展状况直接影响着全球电子信息产业的发展，各国科研人员和企业都在不断投入大量资源进行研究和创新，力求在这一领域取得更大的突破，以推动芯片技术的持续进步，满足日益增长的计算和处理需求，引领科技走向更加辉煌的未来。